現(xiàn)在消費(fèi)者對(duì)產(chǎn)品的要求越來越高，產(chǎn)品不僅要有顏值(外觀好看)，也要有內(nèi)涵(功能性)，還要環(huán)保!企業(yè)若能在產(chǎn)品增添以上三項(xiàng)元素，將可大大擴(kuò)展市場(chǎng)份額!

    而在這三項(xiàng)元素中，顏值是吸引消費(fèi)者最直觀的因素。顏值跟產(chǎn)品的表面處理工藝息息相關(guān)，近日香港生產(chǎn)力促進(jìn)局推出為硅膠和電鍍產(chǎn)品研發(fā)新的表面處理工藝，可大幅改善產(chǎn)品功能!以等離子能量將硅膠表面的氧氣原子改性，將負(fù)極硅膠表面改為正極。

            硅膠產(chǎn)品表面處理工藝

硅膠產(chǎn)品防塵處理環(huán)保工藝

    硅膠是一種耐熱的橡膠，可抵受高溫，相比其他物料，硅膠具備生物相容特性，制成的產(chǎn)品相當(dāng)耐用，適用于食品、醫(yī)療及工業(yè)等行業(yè)。但硅膠表面容易沾塵，生產(chǎn)商一般以化學(xué)噴涂方法，使硅膠產(chǎn)品表面防塵和更平滑，但這種工藝不但成本高，更影響生態(tài)環(huán)境，危害人體健康。

    理論上，硅膠表面存有氧氣原子，帶負(fù)極和靜電，塵粒則帶有正極，因此塵粒和硅膠靜電表面可互相吸引，使表面沾塵及難于清理，影響產(chǎn)品外觀和功效。針對(duì)硅膠表面容易沾塵的問題，生產(chǎn)力局研發(fā)團(tuán)隊(duì)致力研究解決方案，結(jié)果發(fā)現(xiàn)，利用等離子表面改性技術(shù)可改善有關(guān)表現(xiàn)，最終成功以等離子體輔助化學(xué)氣相沉積(PECVD)技術(shù)，達(dá)致優(yōu)化產(chǎn)品表面性質(zhì)的效果。

    促進(jìn)局智能制造及材料科技部高級(jí)顧問盧偉賢博士指出，受靜電影響，一般硅膠容易沾塵，廠商若以傳統(tǒng)化學(xué)涂層方法，防塵及潤(rùn)滑涂層功效只可維持?jǐn)?shù)個(gè)月。嶄新的方法是以等離子能量將硅膠表面的氧氣原子改性，將負(fù)極硅膠表面改為正極，過程中使用無害的有機(jī)化學(xué)品，不會(huì)排出污染廢料，因此是清潔生產(chǎn)工藝。其較低靜電量特質(zhì)，防塵效用高，適用于高檔產(chǎn)品，如眼鏡框，手表表帶等，亦可用于醫(yī)療設(shè)備及運(yùn)動(dòng)產(chǎn)品，令這些產(chǎn)品有更佳表現(xiàn)。

    等離子體表面處理技術(shù)適用于纖維、聚合物和塑膠等物料，亦可應(yīng)用于清洗、活化及蝕刻金屬、塑膠與陶瓷材料的表面部份，改變材料表面的物理特征。硅膠產(chǎn)品防塵處理環(huán)保工藝，可有效解決硅膠靜電、容易沾塵問題，延長(zhǎng)產(chǎn)品壽命，是一種綠色表面處理工藝。它可應(yīng)用于所有硅膠及相關(guān)產(chǎn)品。

    東莞硅膠廚具工廠偉順硅膠在硅膠產(chǎn)品表面處理方面一直緊跟行業(yè)腳步，經(jīng)過今年的發(fā)展，我們擁有了自己的一套表面除靜電的方法。同時(shí)我們也積極的和同行業(yè)的企業(yè)共同研討繼續(xù)深入研究更優(yōu)質(zhì)的靜電處理方案，歡迎大家致電東莞硅膠制品廠咨詢：400-0769-878

硅膠產(chǎn)品防塵處理環(huán)保工藝

厚離子鍍層低成本制作方案

    高能量脈沖式等離子磁控濺射技術(shù)(HPPMS)是結(jié)合「高能量」和「脈沖式」兩大特征的新型磁控濺射系統(tǒng)。在鍍層過程上，電源扮演重要的角色，采用「高能量」和「脈沖式」的放電方式，可于少于2微秒的短時(shí)間，發(fā)出高達(dá)1500V輸出電壓的強(qiáng)大能量，猶如閃電現(xiàn)象。由于過程中釋放大量的離子，消除鍍膜的內(nèi)應(yīng)力，因此可制成厚離子鍍層，無損產(chǎn)品或工件的表面。這種方式可提高離化率(IonizationRate)，即改善涂層在產(chǎn)品表面的附著力。

    高能量脈沖式等離子磁控濺射技術(shù)，能超越傳統(tǒng)的磁控濺射方法，制作出高質(zhì)量多于3μm的厚離子鍍層。由于高能量脈沖方式有利增加離子的密度，不但加強(qiáng)鍍層與底材之間的接合力，亦可減低表面粗糙度，在功能性部件上可進(jìn)一步增強(qiáng)耐磨性能及減少替換次數(shù)。

    對(duì)裝飾性強(qiáng)的產(chǎn)品來說，可保持外觀及更耐用，因此以高能量脈沖式制作鍍層，能有效利用等離子體，從而控制涂層的結(jié)構(gòu)，其特色是可沉積在光滑致密的微細(xì)結(jié)構(gòu)，提升耐腐蝕性及表面光潔度;又或是可沉積在復(fù)雜的幾何工件之上，達(dá)致更均勻的涂層。

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